Вы здесь

Нанесение покрытий (CVD, PVD, ALD, MOCVD)

  • SVTA Inc. - системы молекулярно-лучевой эпитаксии (MBE) для роста высококачественных сложных полупроводниковых материалов, оборудование для осаждения атомных слоев (ALD) и инструменты для осаждения тонких пленок
  • 4wave Inc. - системы Z-Flex сочетают в себе лучшее от ионно-лучевого травления и ионно-лучевого распыления для создания тонкопленочных структур в обычном вакууме, платформы LANS для синтеза многослойных материалов и композиционных нанотехнологий и др.
  • Picosun - Picosun Oy – оборудование для атомно-слоевого осаждения (ALD) тонких пленок
  • Beneq - оборудование для нанесения ALD-покрытий для фотовольтаики, гибкой электроники и др, тонкопленочные электролюминесцентные дисплеи Lumineq
  • Aixtron - реакторы для выращивания эпитаксиальных слоев нитрида галлия   на кремнии по технологии МОС-гидридной эпитаксии (MOCVD)
  • Ulvac Technologies, INC - ионные имплантеры,  автоматические  установки плазмохимического высокоскоростного удаления фоторезиста потоком нисходящей плазмы/реактивно-ионным травлением
  • Yield Engineering Systems (YES), INC - установки вакуумного отжига, плазменной очистки, удаления резиста, модификации и активации поверхности, газофазного химического осаждения
  • Veeco Instruments, Inc. – приборы контроля и оборудование для всех видов систем напыления и нанесения тонких пленок
  • Anric Technologies Systems - настольные инструменты ALD для выращивания пленок из диоксида кремния
  • SPTS - системы обработки полупроводниковых  пластин, с использованием таких технологий, как травление в ИСП (ICP), глубокое реактивное ионное травление (DRIE), сухое травление в парах плавиковой кислоты, изотропное травление кремния XeF2, вакуумное напыление (PVD), усиленное плазмой химическое осаждение из газовой фазы (PECVD), химическое осаждение из газовой фазы с использованием металлорганических соединений (MOCVD), молекулярное осаждение из газовой фазы (MVD)
  • Tempress Systems - разработка и производство диффузионных систем с помощью технологий диффузионного лигирования (POCl3, BBr3), отжига и оксидирования, PECVD осаждения

Дополнительная информация: Фотоника / Системы напыления тонких пленок