Вы здесь

Литография (Litography, Exposure)

  • Brewer Science - материалы, технологии и оборудование для производства полупроводников, новейших 3D чип-упаковок, МЕМС, дисплеев, LED и печатной электроники. Антиотражающие покрытия ARC для литографии, полимерные защитные покрытия ProTEK® , материалы WaferBOND® и BrewerBOND® для завершения внутренней обработки ультратонких пластин, многослойные литографические системы OptiStack® и др.
  • Yield Engineering Systems (YES), INC - установки вакуумного отжига, плазменной очистки, удаления резиста, модификации и активации поверхности, газофазного химического осаждения
  • Kloe - Безмасковые литографические лазерные системы с разрешением до 0,5 мкм. Скорость записи выше 350 мм/с на подложках размером 300х300 мм и более, толщиной от 250 мкм до 10 мм. Для толстых подложек характеристическое отношение глубины фокусировки больше 1/10. 5000 градаций серого при записи микролинз.
  • Ev Group INC - автоматические и полуавтоматические системы безмаскового экспонирования,  совмещения, нанесения и проявления фоторезиста, установки для сварки, ламинирования пластин,  установки и снятия пластин на временный носитель для литографии, NIL, бондинга
  • Nikon Precision, INC - полупроводниковые литографические системы: системы для изготовления микросхем методом иммерсионной литографии, высокоточные иммерсионные сканеры с размером узла до 5 нм, сканеры ArF, KrF
  • Suss Microtech - системы УФ-проекционной литографии, а также инструменты лазерного микроструктурирования для рынков Advanced Packaging, 3D Integration, MEMS и LED
  • Canon - высокоскоростные системы проекционной литографии i-line и Deep UV (DUV), фотолитографическое оборудование
  • ASML - EUV  и DUV литографические системы с размером технологического узла лучше 3 нм
  • Raith - высокопроизводительные установки электронно-лучевой литографии с высокой скоростью экспонирования и ультравысоким разрешением
  • OAI Instruments - автоматизированные, полуавтоматические системы совмещения, экспонирования, AML бондинга, лазерной фотолитографии  для микро/нано-электроники, MEMS и микрофлюидики, NIL
  • Nanoscribe GmbH – приборы и оригинальные методики для изготовления микрооптики методами 3D печати и безмасочной литографии
  • Vistec Electron Beam GmbH - системы электронно-лучевой литографии, основанные на принципе луча переменной формы (VSB)
  • Sono-Tek - системы прецизионного ультразвукового напыления для производства ультратонких пленок
  • SPS   - системы безмасковой оптической литографии с лазером 405 нм,  до 4095 уровней серого, установки для нанесения покрытий, совмещения, и др.