Вы здесь

Эпитаксиальные системы

  • Applied Materials оборудования, используемого на этапах изготовления пластин для создания полупроводниковых приборов, включая атомно-слоевое осаждение (ALD), химическое осаждение из газовой фазы (CVD), вакуумное напыление (PVD), быструю термическую обработку (RTP), химико-механическую планаризацию (CMP), травление,ионную имплантацию и контроль пластин
  • ASM International - установки газофазной эпитаксии для полупроводникового производства
  • Firstnano - системы CVD (APCVD и LPCVD), PECVD, MOCVD, UHVCVD, Reel to Reel CVD, ALD, LPE, RTP/RTA
  • Aixtron SE – оборудование для осаждения металлоорганических соединений из газовой фазы (MOCVD)
  • Tokyo Electron - автоматические многокамерные  установки ионного травления (CCP-RIE/ICP, RIE, RIE/CCP, HD LPCVD)
  • Veeco Instruments, Inc. – приборы контроля и оборудование для всех видов систем напыления и нанесения тонких пленок
  • SVTA Inc. - системы молекулярно-лучевой эпитаксии (MBE) для роста высококачественных сложных полупроводниковых материалов, оборудование для осаждения атомных слоев (ALD) и инструменты для осаждения тонких пленок